미국 텍사스 주 오스틴에 위치한 삼성전자 반도체 공장에서 폐수 유출 사고가 발생했다.
3일 외신 보도에 따르면 최근 1년 동안 해당 공장에서 최대 76만 3000갤런(약 288만 8000L)에 달하는 폐수가 오스틴 북동부 해리스 브랜치 크릭(Harris Branch Creek) 유역으로 유출된 것으로 알려졌다.
오스틴 측은 현지 외신을 통해 같은 시설에서 1년 만에 두 번째 유출이 발생했다고 전했다. 앞서 지난해 5월 27일 첫 폐수 유출 당시에도 약 6만 4950갤런(약 24만 5862L)의 폐수가 해리스 브랜치 크랙 지류로 흘러 들어간 것으로 나타났다.
텍사스환경품질위원회(Texas Environmental Quality Commission)는 "제어반 고장으로 인한 아크 전기와 폐수처리 펌프의 전원 손실이 폐수 유출 원인으로 지목된다"면서 "첫 번째 폐수 유출 과정에서 황산과 불화수소산이 발견됐다"고 전했다.
출처 : 여성경제신문